师资队伍

曾伟雄

2020-04-25  点击:[]

 

曾伟雄,博士,1971年生,台湾国立大学材料科学与工程学博士。

主要经历:
2000年8月-2002年4月 台湾积体电路制造股份有限公司 主任工程师
2002年4月-2007年7月 台湾积体电路制造股份有限公司 技术经理
2007年7月-2010年7月 欧洲微电子研究中心 技术经理
2012年6月-2017年5月 韩国三星电子半导体研发中心 首席工程师
2017年7月-2018年5月 中芯国际集成电路新技术研发(上海)有限公司 技术总监
2018年9月-至今     芯恩(青岛)集成电路有限公司 院士

近五年来从事科研工作的主要成果:
1.January24, 2017, Semiconductor device and method for fabricating the same
2.March15, 2016, Semiconductor device and method for fabricating the same
3.6 May 2011, Study of nitrogen impact on VFB-EOT roll-off by varying interfacial SiO2 thickness, Solid-State Electronics
4.2011 ON THE ORIGIN OF THE MOBILITY REDUCTION IN BULK-SI, UTBOX-FDSOI AND SIGE DEVICES WITH ULTRATHIN-EOT DIELECTRICS, IEEE
5.November 9, 2010, High-K dielectric metal gate device structure 
6.2010, A Low Operating Power FinFET Transistor Module Featuring Scaled Gate Stack and Strain Engineering for 32/28nm SoC Technology, IEEE
7.2010, Implant-Free SiGe Quantum Well pFET: A novel, highly scalable and low thermal budget device, featuring raised source/drain and high-mobility channel, IEEE
8.2010, High-Mobility 0.85nm-EOT Si0.45Ge0.55-pFETs: Delivering high performance at scaled VDD IEEE
9.2010, 6Å EOT Si0.45Ge0.55 pMOSFET with Optimized Reliability (VDD=1V): Meeting the NBTI Lifetime Target at Ultra-Thin EOT, IEEE
10.Dec1, 2009, High-k dielectric metal gate device structure and method for forming the same 

上一条:罗仕洲

suncitygroup太阳新城官网

版权所有:suncitygroup太阳新城(中国)集团-UCL官方合作伙伴  邮编:266071  联系电话:0532-85953300